产品基本信息：
中文名称：1,3,4,6-四(甲氧基甲基)-3a-甲基-6a-苯基四氢咪唑并[4,5-d]咪唑-2,5(1H,3H)-二酮
CAS号：721969-01-3
中文别名：
英文名称：1,3,4,6-tetrakis(methoxymethyl)-3a-methyl-6a-phenyltetrahydroimidazo[4,5-d]imidazole-2,5(1H,3H)-dione
英文别名：SCHEMBL13100917;Tetrahydro-1,3,4,6-tetrakis(methoxymethyl)-3a-methyl-6a-phenylimidazo[4,5-d]imidazole-2,5(1H,3H)-dione;721969-01-3;DB-405754
EINEC:
分子式：C19H28N4O6
分子量：408.448824882507

该产品是经过特殊分子修饰的甘脲衍生物，属于光刻胶和半导体材料领域的高纯度中间体。
它的核心是在四甲氧甲基甘脲（TMMGU）的骨架基础上，引入了甲基和苯基进行修饰，因此也被称为3a-苯基-6a-甲基-1,3,4,6-四甲氧甲基甘脲。

主要用途：
半导体材料：作为关键原料或添加剂使用。
光刻胶：用作光刻胶中的添加剂或交联剂组分。
高性能涂层与高分子材料：用于提升材料性能。